發布時間：2020-04-16 瀏覽次數：1273
中國科學院新疆理化技術研究所引進了我公司設計生產的高真空CVD系統，研究所王老師對我們的產品和服務給予了充分的肯定！
設備簡介：
化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發成套的CVD鍍膜系統，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環?？茖W等領域；
